특허보유현황
전도성 패턴을 형성하는 광소결 시스템
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020160041434
출원일
2016-04-05
등록번호
1017121830000
등록일
2017-02-24
IPC 분류
H05K 3/12|B22F 3/10|B41M 7/00|H05K 3/26
대표도면
요약
본 발명은, 전도성 패턴을 형성하는 광소결 시스템에 관한 것으로, 유연성 기판이 권취된 권취롤과, 권취롤로부터 풀려진 기판이 되감기는 회수롤과, 기판 하면에 인쇄조성물을 마스크 형태로 프린팅하도록, 권취롤과 회수롤 사이에 위치된 마스크인쇄장치와, 기판 상면에 금속 전도성 물질을 도포하도록, 마스크인쇄장치 후단에 구비된 도포장치과, 인쇄조성물 및 기판을 투과해 금속 전도성 물질에 조사되도록 기판 하부에서 빛을 생성하는 광생성장치를 포함하며, 마스크를 기판에 인쇄하므로, 마스크와 기판을 정렬시킬 필요가 없게 되며, 이에 따라, 전도성 패턴 형성 시간 중 기판과 마스크 정렬을 위한 시간이 단축되는 효과가 있는, 전도성 패턴을 형성하는 광소결 시스템을 제공한다.
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