특허보유현황
도전 물질의 패터닝 장치 및 방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020160061597
출원일
2016-05-19
공개번호
1020170130852
공개일
2017-11-29
등록번호
1018774520000
등록일
2018-07-05
IPC 분류
H10P 50/26|H10P 14/40|H10P 34/42|H10P 72/76|H10P 72/00|H10P 76/00|H10P 10/00|H10W 74/01
대표도면
요약
본 발명의 일 실시예에 따른 도전 물질의 패터닝 장치는 액체 금속을 포함하는 도전 물질이 형성된 전사 기판, 상기 전사 기판을 회전시키는 회전부, 상기 도전 물질에 레이저 빔을 조사하는 레이저부, 상기 전사 기판과 이격되어 위치하며 상기 도전 물질을 수용하는 수용 기판이 탑재되는 스테이지, 그리고 상기 전사 기판과 인접하여 위치하며 상기 도전 물질을 냉각시키는 냉각부를 포함한다.
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