특허보유현황
아킹 제어된 이온빔 소스
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020160069479
출원일
2016-06-03
공개번호
1020170137986
공개일
2017-12-14
등록번호
1018507570000
등록일
2018-04-16
IPC 분류
H01J 27/02|H01J 27/08|H01J 37/08|H01F 7/02|H01F 7/06|H01F 1/147
대표도면
요약
본 발명은 제1음극; 상기 제1음극을 둘러싸며, 상기 제1음극과 사이에 이온빔 인출부를 형성하는 제2음극; 상기 이온빔 인출부 하부에서 제1음극 및 제2음극 사이에 이격되도록 배치된 양극을 포함하며, 상기 양극이 자성체로 이루어진 아킹이 제어된 이온빔 소스에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 제1음극; 상기 제1음극을 둘러싸며, 상기 제1음극과 사이에 이온빔 인출부를 형성하는 제2음극; 상기 이온빔 인출부 하부에서 제1음극 및 제2음극 사이에 이격되도록 배치된 양극을 포함하며, 상기 제1음극 및 제2음극의 내부에 자성체가 구비되는 아킹이 제어된 이온빔 소스에 관한 것이다. 상기 본 발명에 따른 아킹이 제어된 선형 이온빔 소스는 이온빔 소스 내에서 플라즈마 분포를 제어하여 상기 플라즈마에 의한 절연체 표면 축전을 저감함으로써, 아크방전, 절연체의 손상 및 불순물 발생을 감소시키는 기능이 구현되어 방전 안정성 및 수명을 증가시킬 수 있다.
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