특허보유현황
초점위치 오차 검출 장치 및 방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020160095907
출원일
2016-07-28
공개번호
1020180012963
공개일
2018-02-07
등록번호
1018673160000
등록일
2018-06-07
IPC 분류
G02B 27/00|G02B 27/30|G02B 7/09
대표도면
요약
본 발명은 초점위치 오차 검출 장치 및 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게 광을 집광하여 측정 또는 공정을 수행하는 광학 시스템에 있어, 초점의 위치를 측정하거나, 시편의 표면에 정확히 맺히도록 하기 위한 초점위치 오차 검출 장치 및 방법에 관한 것이다. 특히. 본 발명에서는 두 가지 광학계를 통합하여 각각의 검출소자에 도달하도록 하는 빛의 세기를 제2빔스플리터를 통하여 조절하도록 함으로써, 좁은 선형구간과 넓은 유효구간을 동시에 얻을 수 있도록 한다.
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