특허보유현황
이온빔 소스
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020160096389
출원일
2016-07-28
공개번호
1020160094918
공개일
2016-08-10
등록번호
1020751570000
등록일
2020-02-03
IPC 분류
H01J 27/14|H01J 37/073|H01J 37/08
대표도면
요약
이온빔 소스는 양극 및 방전 공간을 형성하기 위해 상기 양극의 상방에 제1 간격만큼 이격되도록 제1 음극 및 제2 음극이 배치되고, 상기 제1 음극 및 제2 음극은 상기 방전 공간에서 형성된 이온빔을 인출하기 위해 서로 제2 간격만큼 이격되는 음극을 포함한다. 상기 제1 음극 및 제2 음극은 각각, 상기 방전 공간을 확장하기 위해 상기 양극과 마주보는 저면과 상기 제1 음극과 상기 제2 음극이 서로 마주보는 측면이 만나는 모서리에 제1 경사부를 갖는다. 따라서, 상기 이온빔 소스의 방전 공간을 크게 하여 인출되는 이온빔의 양을 증가시킬 수 있다.
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