특허보유현황
플라즈모닉 메타표면 제작방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020160165805
출원일
2016-12-07
공개번호
1020180066307
공개일
2018-06-19
등록번호
1018851740000
등록일
2018-07-30
IPC 분류
G02B 5/00|C23F 1/12|C23F 1/02|C09K 13/00
대표도면
요약
본 발명은 대면적 제작 및 롤 스탬프를 이용한 연속 공정이 가능한 플라즈모닉 메타표면 제작방법에 관한 것이다. 이를 위해, 본 발명은 일면에 일면에 나노 구조체를 가지는 스탬프를 준비하고, 상기 일면에 이방성 진공 증착으로 마스크층을 형성하는 마스크층 형성단계; 기판 위에 금속막을 형성하는 금속막 형성단계; 상기 마스크층 중 상기 나노 구조체 위에 위치하는 마스크층을 상기 금속막 위로 전사하는 마스크층 전사단계; 그리고 상기 금속막 중 상기 마스크층으로 덮이지 않은 영역을 제 1 식각 가스로 건식 식각하여 상기 금속막을 금속패턴으로 패터닝 하는 금속막 패터닝단계;를 포함하는 플라즈모닉 메타표면 제작방법을 제공한다.
전문보기
기술이전 상담신청