특허보유현황
전도성 패턴 형성 이후의 후속공정 조건을 고려한 전자소자 제조시스템 및 이를 이용한 전자소자 제조방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020170031548
출원일
2017-03-14
공개번호
1020180104814
공개일
2018-09-27
등록번호
1020028370000
등록일
2019-07-17
IPC 분류
H01B 13/00|H01B 3/30
대표도면
요약
전도성 패턴 형성 이후의 후속공정 조건을 고려한 전자소자 제조시스템 및 전자소자 제조방법에서, 상기 전자소자 제조시스템은 정보제공부, 기판 선택유닛, 패턴 형성유닛 및 후속 공정유닛을 포함한다. 상기 정보제공부는 전도성 패턴 형성 공정 이후의 후속공정의 공정 조건에 대한 정보가 입력된다. 상기 기판 선택유닛은 상기 공정 조건에 적합한 기판에 관한 정보가 저장된 데이터베이스, 및 상기 데이터베이스로부터 상기 공정 조건에 적합한 기판을 선택한다. 상기 패턴 형성유닛은 상기 선택된 기판 상에 전도성 패턴을 형성한다. 상기 후속 공정유닛은 상기 전도성 패턴이 형성된 기판에 대하여 후속공정을 수행하여 전자소자를 완성한다.
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