특허보유현황
균일한 액적을 이용하는 기판용 초음파 세정장치 및 세정시스템
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020170114395
출원일
2017-09-07
공개번호
1020190027517
공개일
2019-03-15
등록번호
1020071870000
등록일
2019-07-30
IPC 분류
H10P 72/00|B08B 3/12|H10P 10/00
대표도면
요약
본 발명은 균일한 액적을 이용하는 기판용 초음파 세정장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 기체를 이용하여 세정액 입자가 서로 결합되는 걸을 방지하고, 기체의 방출 범위를 제어하여 세정액 입자가 세정하는 기판의 범위를 제어 가능한, 균일한 액적을 이용하는 기판용 초음파 세정장치에 관한 것이다.
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