특허보유현황
※ 본 공고는 설정등록된 특허(특허법 제87조)를 기준으로 작성되었으며, 최신 특허출원은 설정등록 이후 순차적으로 반영됩니다.
다중 레이저 어블레이션을 이용한 금속 나노 입자의 제조 시스템
출원인
한국에너지기술연구원|한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020170123154
출원일
2017-09-25
공개번호
1020190034747
공개일
2019-04-03
등록번호
1019829330000
등록일
2019-05-21
IPC 분류
B22F 9/22|B01J 19/12|H01S 3/00
대표도면
요약
본 발명은 레이저 어블레이션을 이용한 금속 나노 입자의 제조 시스템에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 제1 반응기; 제1 반응기에 에너지를 조사하는 제1 레이저 광원; 수평 관형 제2 반응기; 제2 반응기에 에너지를 조사하는 제2 레이저 광원; 및 제1 반응기와 제2반응기 사이의 유체 이동제어부를 포함하여 구비하고, 상기 제1 반응기는 내부에 금속잉곳이 안치되는 금속안치대가 형성되고 반응액이 충진된 밀폐구조이며, 상기 제2 반응기는 직경이 D1인 영역과, 상기 직경이 D1 이하인 D2 영역으로 구분되고 상기 D2 영역에 제2 레이저 광원이 조사되고, 상기 조사된 제2 레이저 광이 D2 영역내에서 집속하도록 제2 반응기 내부에 오목곡률을 갖는 반사경이 구비됨으로써, 균일한 크기의 금속 나노 입자를 연속적으로 대량 생산할 수 있는 레이저 어블레이션을 이용한 금속 나노 입자의 제조 시스템에 관한 것이다.
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