특허보유현황
공초점 리소그래피 장치
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020170138306
출원일
2017-10-24
공개번호
1020190045564
공개일
2019-05-03
등록번호
1020271560000
등록일
2019-09-25
IPC 분류
H10P 76/00|G03F 7/00
대표도면
요약
본 발명은 공초점 방식을 이용하여 가공 대상물을 균일하게 경화시킬 수 있도록 하는 공초점 리소그래피 장치에 관한 것이다. 본 발명은 가공 대상물을 향해 광을 출사하는 광원; 상기 가공 대상물로부터 반사된 광의 세기를 검출하는 광검출부; 상기 광원으로부터 출사되는 광을 상기 가공 대상물로 전송하고, 상기 가공 대상물로부터 반사되는 광을 상기 검출부로 전송하는 하프미러; 상기 하프미러를 경유한 광을 상기 가공 대상물로 집광시키는 대물렌즈; 상기 광검출부와 연결되어, 기설정된 범위 내에서 상기 광검출부를 왕복 이동시키는 제1 구동부; 상기 대물렌즈와 연결되어, 상기 대물렌즈와 상기 가공 대상물 간의 거리를 조절하기 위해 상기 대물렌즈를 이동시키는 제2 구동부; 및 상기 광검출부의 위치 변화에 대한 상기 광검출부에서 검출된 광의 세기 변화를 기반으로 하여, 상기 가공 대상물에 형성되는 광의 초점 위치를 변경하기 위하여 상기 대물렌즈의 이동 방향을 제어하는 제어부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 공초점 리소그래피 장치를 제공한다.
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