특허보유현황
물질막 형성 방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020180024626
출원일
2018-02-28
공개번호
1020180023938
공개일
2018-03-07
등록번호
1018509650000
등록일
2018-04-16
IPC 분류
C23C 16/455|C23C 16/458
대표도면
요약
본 발명은 폴리머 기판 상에 버퍼층을 형성하는 단계, 상기 버퍼층 상에 몰리브덴 또는 산화몰리브덴을 함유하는 예비층을 형성하는 단계 및 황화수소를 함유하는 분위기에서 상기 예비층에 대하여 플라즈마 처리를 수행하여 이황화몰리브덴층을 형성하는 단계를 포함하는 물질막 형성 방법을 제공한다.
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