특허보유현황
광학식 리소그래피 장치 및 그 제어 방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020180047207
출원일
2018-04-24
공개번호
1020190123464
공개일
2019-11-01
등록번호
1021191650000
등록일
2020-05-29
IPC 분류
G03F 7/20|H10P 76/00
대표도면
요약
본 발명은 광학식 리소그래피 장치 및 그 제어 방법에 관한 것으로, 본 발명의 목적은 건식 리소그래피 방식을 사용하되 매질 경계면에서의 굴절 및 이에 따른 구면수차로 인한 광점 왜곡 오류를 효과적으로 보상하는, 광학식 리소그래피 장치 및 그 제어 방법을 제공함에 있다. 보다 구체적으로는, 레지스트로 조사되는 광의 광경로 상에 위치하는 시준렌즈에 대하여, 깊이 방향으로의 광점 위치에 따라 시준렌즈의 깊이 방향 즉 평행광 광축 방향 위치를 조절함으로써 광의 확산 및 수렴 정도를 조절하여, 궁극적으로는 공기-레지스트 경계면에서 굴절됨으로써 발생된 광점 왜곡 오류를 효과적으로 보상하는, 광학식 리소그래피 장치 및 그 제어 방법을 제공함에 있다.
전문보기
기술이전 상담신청