특허보유현황
반도체 제조 설비의 배기가스 처리장치
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020180053804
출원일
2018-05-10
공개번호
1020190129330
공개일
2019-11-20
등록번호
1021456610000
등록일
2020-08-11
IPC 분류
H10P 72/00|B01D 53/75|B01D 53/78|B01D 53/79|B01D 47/06|B03C 3/017
대표도면
요약
본 발명은 반도체 제조 설비의 배기가스 처리장치에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 반도체 제조 설비의 배기가스 처리장치는 반도체 제조 설비에서 유해가스 및 입자상 물질을 포함하는 배기가스를 처리하는 배기가스 처리장치에 있어서, 상기 배기가스가 유입되며 오존을 생성 또는 공급하여 상기 배기가스에 포함된 일산화질소를 수용성의 이산화질소로 산화시키는 오존 처리 모듈, 상기 오존 처리 모듈에서 처리된 배기가스가 유입되며 산화제 수용액 또는 환원제 수용액을 분사하여 상기 배기가스를 처리하는 산화환원 처리 모듈 및 상기 산환환원 처리 모듈에서 처리된 배기가스 및 미스트가 유입되며 상기 유입된 배기가스 및 미스트를 하전시키고 수막이 형성되는 집진판에 집진시키며 처리하는 전기집진 처리 모듈을 포함하는 것을 특징으로 한다.
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