특허보유현황
휘발성유기화합물과 입자상 물질을 제거하는 경화장치
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020180055463
출원일
2018-05-15
공개번호
1020190130830
공개일
2019-11-25
등록번호
1021524120000
등록일
2020-08-31
IPC 분류
B01D 53/75|B01D 53/00|B01D 53/86|B01D 46/00|H10P 72/00
대표도면
요약
본 본 발명의 목적은 경화공정(curing)에서 발생하는 휘발성유기화합물(VOC)을 산화 및 제거하고, 동시에 경화공정에서 발생하는 입자상 물질들을 제거하는 휘발성유기화합물과 입자상 물질을 제거하는 경화장치를 제공하는 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 휘발성유기화합물과 입자상 물질을 제거하는 경화장치는, 제공되는 반도체 패키지를 수용하여 상기 반도체 패키지의 경화공정(curing)을 수행하는 챔버, 상기 챔버의 일측에 구비되어 순환되는 분위기 가스를 가열하는 히터, 및 상기 히터의 일측에 구비되어 상기 경화공정 중에 상기 챔버 내에서 발생되는 휘발성유기화합물을 산화 제거하는 산화 촉매를 포함한다.
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