특허보유현황
나노 임프린팅용 대면적 스탬프 제조방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020180061213
출원일
2018-05-29
공개번호
1020190135782
공개일
2019-12-09
등록번호
1020685740000
등록일
2020-01-15
IPC 분류
G03F 7/00|G03F 7/20|H10P 76/00
대표도면
요약
본 발명의 일실시예는 연속되는 나노패턴을 가지는 나노 임프린팅용 대면적 스탬프 제조방법을 제공한다. 여기서, 나노 임프린팅용 대면적 스탬프 제조방법은 임프린팅단계, 제거단계 그리고 생성단계를 포함한다. 임프린팅단계는 폴리머층의 전체 면적보다 작은 면적을 가지고 표면에 나노패턴이 형성된 스탬프를 폴리머층에 가압하여, 폴리머층에 나노패턴에 대응되는 전사패턴이 임프린팅된 복수의 임프린팅 영역을 연속적으로 형성한다. 제거단계는 폴리머층에서, 이웃하는 임프린팅 영역의 사이에 설정된 경계 영역에 잔존하는 잔존 폴리머에 제1레이저빔을 조사하여 잔존 폴리머를 제거한다. 생성단계는 경계 영역의 양측에 임프린팅된 전사패턴과 연속되도록 경계 영역에 폴리머 소재의 추가 나노패턴을 생성한다.
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