특허보유현황
SiO2 및 TiO2로 표면 개질된 세라믹 분리막의 제조 방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020180129521
출원일
2018-10-29
등록번호
1020767330000
등록일
2020-02-06
IPC 분류
B01D 67/00|B01D 71/02|B01D 69/10
대표도면
요약
본 발명에서는 다공성 세라믹 분리층에 존재하는 코팅 물질 SiO 2 및 TiO 2 의 몰비를 조절함으로써, SiO 2 의 내오염성과 TiO 2 의 광분해 활성을 동시에 향상시키는 세라믹 분리막에 대하여 개시한다. 본 발명에 따른 SiO 2 및 TiO 2 로 표면 개질된 세라믹 분리막은 다공성 세라믹 지지층; 및 상기 다공성 세라믹 지지층 상에 위치하는 다공성 세라믹 분리층;을 포함하고, 상기 다공성 세라믹 분리층은 세라믹 입자 및 상기 세라믹 입자 표면을 코팅하는 코팅막을 포함하며, 상기 코팅막은 SiO 2 및 TiO 2 을 포함하고, 상기 코팅막은 SiO 2 및 TiO 2 의 전체 100mol% 대하여, TiO 2 10~60mol%를 포함하는 것을 특징으로 한다.
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