특허보유현황
※ 본 공고는 설정등록된 특허(특허법 제87조)를 기준으로 작성되었으며, 최신 특허출원은 설정등록 이후 순차적으로 반영됩니다.
희생층을 이용한 광 유도 전사 방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020190027613
출원일
2019-03-11
공개번호
1020200108658
공개일
2020-09-21
등록번호
1022124220000
등록일
2021-01-29
IPC 분류
G03F 7/20|H10W 29/00|H10W 20/00|H10D 62/83
대표도면
요약
본 발명의 일 실시예에 따른 광 유도 전사 방법은 전사 기판 위에 희생층을 형성하는 단계, 상기 희생층 위에 전사층을 형성하는 단계, 상기 전사 기판의 배면에 광을 조사하여 상기 전사층을 상기 전사 기판과 마주하는 대향 기판에 전사시키는 단계를 포함하고, 상기 희생층은 그래핀을 포함한다.
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