특허보유현황
※ 본 공고는 설정등록된 특허(특허법 제87조)를 기준으로 작성되었으며, 최신 특허출원은 설정등록 이후 순차적으로 반영됩니다.
공정 부산물 제거를 위한 플라즈마 반응장치 및 이를 구비한 반도체 공정 설비
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020190034546
출원일
2019-03-26
공개번호
1020200113816
공개일
2020-10-07
등록번호
1022090940000
등록일
2021-01-22
IPC 분류
H01J 37/32|H10P 72/00
대표도면
요약
플라즈마 반응장치는 본체, 접지 전극, 유전체, 및 고전압 전극을 포함한다. 본체는 공정 챔버와 연결된 제1 진공관과, 진공 펌프와 연결된 제2 진공관 사이에 설치된다. 접지 전극은 적어도 하나의 개구가 형성된 관형부와, 관형부의 일측 단부를 막는 판형부를 포함하는 바스켓 형태이며, 내부 공간이 제1 진공관과 제2 진공관 중 어느 하나와 바로 통하도록 본체의 내부에 고정된다. 유전체는 관형부와 마주하도록 본체에 설치된다. 고전압 전극은 유전체의 외면에 위치한다.
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