특허보유현황
공정 부산물 제거를 위한 플라즈마 반응장치 및 이를 구비한 반도체 공정 설비
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020190050859
출원일
2019-04-30
공개번호
1020200126775
공개일
2020-11-09
등록번호
1021772420000
등록일
2020-11-04
IPC 분류
H01J 37/32
대표도면
요약
공정 부산물 제거를 위한 플라즈마 반응장치는 본체, 접지 전극부, 유전체, 및 고전압 전극을 포함한다. 본체는 공정 챔버와 진공 펌프를 연결하는 진공관에 설치되며, 유입관과 확장부 및 배출관을 포함한다. 접지 전극부는 확장부의 내부에 위치하며, 개구의 위치가 서로 다른 적어도 두 종류의 수평판이 하나씩 교대로 반복 배치된 다층 구조로 이루어진다. 유전체는 확장부의 측벽에 설치된다. 고전압 전극은 유전체의 외면에 위치하며, 전원으로부터 구동 전압을 인가받아 접지 전극부의 내부 공간에 플라즈마를 생성한다.
전문보기
기술이전 상담신청