특허보유현황
패턴묘화장치 및 이를 이용한 패턴묘화방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020190065269
출원일
2019-06-03
등록번호
1021524630000
등록일
2020-08-31
IPC 분류
G03F 7/00|G03F 9/00
대표도면
요약
본 발명은 기판의 표면을 추적하기 위한 레이저 광과 감광소재를 경화시키기 위한 레이저 광의 초점 위치를 독립적으로 제어하여 3차원 형상의 패턴을 균일하게 견고하게 경화시킬 수 있는 패턴묘화장치 및 이를 이용한 패턴묘화방법을 제공함에 있다. 이를 위한 본 발명은 기판을 향해 제1 광을 출사하는 제1 광원부; 상기 기판에서 반사되는 상기 제1 광을 검출하는 검출부; 감광소재를 경화시키기 위한 제2 광을 출사하는 제2 광원부; 상기 제1 광 및 상기 제2 광이 상기 기판을 향하도록 경로를 마련하는 필터; 상기 필터와 상기 기판 사이에 배치되며, 상기 필터를 경유한 상기 제1 광 및 상기 제2 광을 집광시키는 대물렌즈; 상기 대물렌즈와 연결되며, 상기 검출부에서 검출되는 상기 제1 광을 기반으로 상기 대물렌즈와 상기 기판 사이의 간격과 상기 대물렌즈의 초점거리가 일치되도록, 상기 대물렌즈를 이동시키는 제1 렌즈구동부; 상기 제2 광원부와 상기 필터 사이에 배치되며, 상기 제2 광을 집광시키는 집광렌즈; 및 상기 집광렌즈와 연결되며, 상기 대물렌즈에서 집광되는 상기 제2 광의 초점위치가 가변되도록, 상기 집광렌즈를 이동시키는 제2 렌즈구동부;를 포함하는 특징을 개시한다.
전문보기
기술이전 상담신청