특허보유현황
이형막의 선택적 형성을 통한 임프린트 방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020190087492
출원일
2019-07-19
공개번호
1020210010078
공개일
2021-01-27
등록번호
1022186760000
등록일
2021-02-16
IPC 분류
G03F 7/00|G03F 7/20|H10P 76/00
대표도면
요약
이형막의 선택적 형성을 통한 임프린트 방법에서, 몰드 패턴이 형성된 패턴 영역, 및 상기 패턴 영역 외의 비패턴 영역으로 구분된 임프린트 몰드 상에, 이형막을 상기 패턴 영역 또는 상기 비패턴 영역에만 선택적으로 형성한다. 상기 패턴 영역 상에 레진을 충진한다. 타깃 기판을 상기 임프린트 몰드에 점착하여, 상기 충진된 레진을 상기 타깃 기판으로 전사한다.
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