특허보유현황
공정 부산물 제거를 위한 플라즈마 반응장치 및 이를 구비한 반도체 공정 설비
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020190100592
출원일
2019-08-16
등록번호
1021772410000
등록일
2020-11-04
IPC 분류
H01J 37/32
대표도면
요약
플라즈마 반응장치는 반응 챔버와 접지 전극 및 고전압 전극을 포함한다. 반응 챔버는 공정 챔버와 연결된 제1 진공관이 접속되어 내부 공간으로 공정 가스가 유입된다. 접지 전극은 반응 챔버의 내부에 고정되며, 개구에 의해 내부 공간이 반응 챔버의 내부 공간과 통해 있고, 진공 펌프와 연결된 제2 진공관이 접속되어 공정 가스를 배출한다. 고전압 전극은 접지 전극의 내부 중앙에 위치하며, 유전체로 둘러싸이고, 전원으로부터 구동 전압을 인가받아 접지 전극의 내부 공간에 플라즈마를 생성한다.
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