특허보유현황
나노구조 텅스텐옥사이드 박막 제조방법 및 이에 의하여 제조된 나노구조 텅스텐옥사이드 박막
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020190103703
출원일
2019-08-23
공개번호
1020210023471
공개일
2021-03-04
등록번호
1023319510000
등록일
2021-11-23
IPC 분류
C23C 18/12|C23C 18/06|C09J 129/04|B82B 3/00|H01B 5/14|H01B 1/22|B82Y 40/00
대표도면
요약
본 명세서에 개시된 기술은 일정한 형상을 가지고 소결시 변형량이 적은 나노구조 텅스텐옥사이드 박막을 제조방법을 제공한다. 본 명세서에 개시된 기술의 실시예에 따른 나노구조 텅스텐옥사이드 박막 제조방법에 의하면, 일정한 형상의 나노구조를 갖는 텅스텐 옥사이드 박막을 재현성있게 제공할 수 있으며, 반복 공정을 통해 3차원 나노구조 형성이 가능하다. 본 명세서에 개시된 나노구조 텅스텐옥사이드의 넓은 표면적으로 인해 전기변색, 디스플레이, 수소생산, 물분해, 이차전지, 화학센서, 가스센서 등의 효율향상에 기여하는 효과가 있다.
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