특허보유현황
나노 임프린팅 패턴 제작 방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020190104315
출원일
2019-08-26
공개번호
1020210025149
공개일
2021-03-09
등록번호
1022307020000
등록일
2021-03-16
IPC 분류
G03F 7/00|G03F 7/20|G03F 7/16|G03F 7/34|H10P 76/00|H10W 29/00
대표도면
요약
본 발명의 일실시예는 개구부의 입구가 상대적으로 더 좁은 패턴을 제작할 수 있는 나노 임프린팅 패턴 제작 방법 및 이에 의해 제작되는 나노 임프린팅 패턴을 제공한다. 여기서, 나노 임프린팅 패턴 제작 방법은 제1기판상에 폴리머 레진을 도포하는 단계와, 베이스부로 갈수록 단면적이 증가하는 형상의 제1패턴부가 형성된 스탬프를 마련하는 단계와, 스탬프로 폴리머 레진을 가압하고 폴리머 레진을 경화시켜, 폴리머 레진에 제1기판으로 갈수록 단면적이 증가하는 기본패턴과, 제1기판상에 밀착되도록 마련되고 기본패턴의 하부를 연결하는 잔류층을 가지는 제2패턴부가 형성되도록 하는 단계와, 스탬프를 제거하는 단계와, 제2패턴부의 상부에 제2기판을 밀착하고, 제2패턴부를 제2기판으로 전사하는 단계와, 잔류층을 제거하여 제2기판으로 갈수록 단면적이 감소하는 역형상 패턴이 남도록 하는 단계를 포함한다.
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