특허보유현황
※ 본 공고는 설정등록된 특허(특허법 제87조)를 기준으로 작성되었으며, 최신 특허출원은 설정등록 이후 순차적으로 반영됩니다.
실리콘 웨이퍼 노즐과 그 제조방법 및 메가소닉 세정 모듈
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020190105998
출원일
2019-08-28
공개번호
1020210025936
공개일
2021-03-10
등록번호
1023043120000
등록일
2021-09-14
IPC 분류
H10P 76/00|H10P 50/20|H10P 54/00|H10P 14/42|H10P 50/00|H10P 50/26|G03F 7/20|H10P 50/28|H10P 72/00
대표도면
요약
본 발명의 목적은 타겟으로부터 미세한 파티클들을 분리 세정하는 메가소닉 세정 모듈에 사용되어, 메가소닉이 인가된 세정액을 타겟에 직접 분사하는 실리콘 웨이퍼 노즐을 제조하는 제조방법을 제공하는 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 실리콘 웨이퍼 노즐 제조방법은, 실리콘 웨이퍼의 양면 중 제1면에 알루미늄층을 형성하는 제1단계, 상기 실리콘 웨이퍼의 다른 제2면에 포토레지스트를 도포하고, 노광 및 현상하여 포토레지스트층을 패터닝 하는 제2단계, 상기 포토레지스트층 패턴을 따라 상기 실리콘 웨이퍼에 메가소닉이 인가된 세정액을 분사하는 분사홀들을 형성하는 제3단계, 상기 알루미늄층과 상기 포토레지스트층을 제거하는 제4단계, 및 상기 실리콘 웨이퍼를 컷팅하여 실리콘 스택을 형성하는 제5단계를 포함한다.
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