특허보유현황
플라즈마 세정장치 및 이를 구비한 반도체 공정설비
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020190176949
출원일
2019-12-27
공개번호
1020210084046
공개일
2021-07-07
등록번호
1022812360000
등록일
2021-07-19
IPC 분류
H01J 37/32
대표도면
요약
플라즈마 세정장치는 금속 챔버, 유전체, 고전압 전극, 및 접지 전극을 포함한다. 금속 챔버는 제1 진공관과 제2 진공관 사이에 설치되며, 적어도 하나의 개구를 포함한다. 유전체는 개구를 막도록 금속 챔버에 기밀 상태로 설치되고, 고전압 전극은 유전체의 외면에 위치한다. 접지 전극은 금속 챔버의 내면 중 제1 진공관과 유전체 사이 부분에 고정된 고정부와, 고정부로부터 제2 진공관을 향해 확장되어 유전체와 거리를 두고 마주하는 대향부를 포함하며, 제1 진공관을 향한 플라즈마의 확산을 억제한다.
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