특허보유현황
※ 본 공고는 설정등록된 특허(특허법 제87조)를 기준으로 작성되었으며, 최신 특허출원은 설정등록 이후 순차적으로 반영됩니다.
플라즈마 세정장치 및 이를 구비한 반도체 공정설비
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020190176950
출원일
2019-12-27
등록번호
1022744590000
등록일
2021-07-01
IPC 분류
H01J 37/32|H10P 72/00
대표도면
요약
플라즈마 세정장치는 금속챔버, 게이트 조립체, 유전체, 및 고전압 전극을 포함한다. 금속챔버는 공정챔버와 진공펌프를 연결하는 진공관에 연결 설치되며 제1 개구를 가진다. 게이트 조립체는 제1 개구 주위의 금속챔버에 고정되며 제2 개구를 가지는 게이트 서포트와, 게이트 서포트에 결합되며 제2 개구를 닫는 제1 위치와 제2 개구를 여는 제2 위치의 상호 전환이 가능한 게이트를 포함한다. 유전체는 제2 개구 주위의 게이트 서포트의 외측에 결합되며, 고전압 전극은 유전체의 외면에 위치한다.
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