특허보유현황
고상시료 열처리 장치
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020200029712
출원일
2020-03-10
공개번호
1020210114249
공개일
2021-09-23
등록번호
1024323660000
등록일
2022-08-09
IPC 분류
B09B 3/00|B01F 27/72|B01F 35/90|B01F 35/00
대표도면
요약
본 발명의 목적은 고상시료를 급속히 열처리할 수 있는 고상시료 열처리 장치를 제공하는 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 고상시료 열처리 장치는, 열처리 공간에 공급되는 고상시료를 플라즈마 제트로 열처리하는 열처리기, 및 상기 열처리기에 설치되어 플라즈마를 생성하여 고상시료에 플라즈마 제트를 공급하는 플라즈마 발생기를 포함한다.
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