특허보유현황
수용성 고분자를 이용한 나노 패턴 전사 방법 및 나노 패턴 전사용 템플릿
출원인
한국과학기술원|한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020200040687
출원일
2020-04-03
등록번호
1022729060000
등록일
2021-06-29
IPC 분류
B29C 59/00|C08L 5/08|C23C 14/22|D06Q 1/12
대표도면
요약
본 발명은, 패턴을 가지는 템플릿 상에 나노 구조체를 형성하여 리시버 기판에 나노 패턴을 전사하는 방법으로서 템플릿이 수용성 고분자로 형성되는 나노 패턴 전사 방법 및, 리시버 기판에 나노 패턴 전사시 이용되는 템플릿으로서 템플릿이 수용성 고분자로 형성되는 나노 패턴 전사용 템플릿을 제공한다.
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