특허보유현황
자가 보호층이 형성된 전극 제조방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020200095394
출원일
2020-07-30
공개번호
1020220015184
공개일
2022-02-08
등록번호
1024523680000
등록일
2022-10-04
IPC 분류
H01M 4/1395|H01M 4/04|H01M 4/38|H01M 4/36|H01M 4/62|H01M 10/052
대표도면
요약
자가 보호층이 형성된 전극 제조방법에서, 실리콘 입자들과 첨가물을 포함한 음극 활물질 용액을 제조한다. 상기 용액을 기판 상에 코팅한다. 상기 코팅된 용액을 건조하여 전극을 형성한다. 상기 전극의 상부에서 광을 조사하여, 상기 전극의 상측에 자가 보호층을 형성한다.
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