특허보유현황
플라즈마 화학기상증착 공정의 실시간 제어 방법 및 플라즈마 화학기상증착용 반응 챔버
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020200102576
출원일
2020-08-14
공개번호
1020220021691
공개일
2022-02-22
등록번호
1024370910000
등록일
2022-08-23
IPC 분류
C23C 16/505|C23C 16/52|H01J 37/32
대표도면
요약
PECVD 공정의 실시간 제어 방법은, PECVD 공정으로 유전층을 형성하는 과정에서 광학 방출 분광(OES, Optical Emission Spectroscopy) 장비를 이용하여 플라즈마 방출광의 스펙트럼을 실시간으로 측정 및 수집하는 측정 단계와, 측정 단계에서 수집된 스펙트럼의 세기에 반비례하여 플라즈마 온 타임(plasma on time)을 조절하는 공정 제어 단계를 포함한다.
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