특허보유현황
플라즈마 반응 장치
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020220015775
출원일
2022-02-07
공개번호
1020230119524
공개일
2023-08-16
등록번호
1028674400000
등록일
2025-09-26
IPC 분류
H01J 37/32
대표도면
요약
본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 반응 장치는 플라즈마 처리를 진행하는 내부 공간을 제공하는 플라즈마 챔버; 상기 플라즈마 챔버의 외벽에 설치되는 외부 전극; 그리고 상기 플라즈마 챔버를 사이에 두고 상기 외부 전극과 대향하며 상기 플라즈마 챔버의 상기 내부 공간에 설치되는 내부 전극; 그리고 상기 내부 전극 및 상기 외부 전극에 전원을 공급하는 전원부를 포함하고, 상기 플라즈마 챔버는 사이클론 구조를 가지며, 상기 플라즈마 챔버는 상기 플라즈마 처리 물질을 상기 사이클론 구조를 이용하여 분리한다.
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