특허보유현황
플라즈마 장치용 공정 모니터링 시스템
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020220041282
출원일
2022-04-01
공개번호
1020230142267
공개일
2023-10-11
등록번호
1027030040000
등록일
2024-08-30
IPC 분류
H01J 37/32|G01J 1/42|G01J 1/44
대표도면
요약
본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 장치용 공정 모니터링 시스템은 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 장치에서 방출되는 방출 신호 중 투과 광신호 및 투과 배경신호를 검출하는 광 센서 어레이; 그리고 상기 광 센서 어레이에 연결되며, 상기 투과 광신호와 상기 투과 배경신호를 연산하여 상기 투과 광신호의 세기만을 측정하는 신호 처리부를 포함한다.
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