특허보유현황
※ 본 공고는 설정등록된 특허(특허법 제87조)를 기준으로 작성되었으며, 최신 특허출원은 설정등록 이후 순차적으로 반영됩니다.
임프린트 리소그래피를 이용한 나노멤브레인 제작방법 및 상기 방법으로 제작된 나노멤브레인
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020220167941
출원일
2022-12-05
공개번호
1020240083622
공개일
2024-06-12
등록번호
1029751820000
등록일
2026-06-04
IPC 분류
G03F 7/00|B82Y 99/00
대표도면
요약
본 발명은 나노멤브레인 제작방법 및 상기 방법으로 제작된 나노멤브레인에 관한 것이다. 본 발명의 목적은 나노 임프린트 리소그래피 또는 용액전사 임프린트 리소그래피 기술을 이용하여 대면적에 균일하게 일정한 크기의 나노포어를 형성할 수 있도록 하는, 임프린트 리소그래피를 이용한 나노멤브레인 제작방법 및 상기 방법으로 제작된 나노멤브레인을 제공함에 있다.
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