특허보유현황
대면적 투과필터를 활용한 플라즈마 공정 모니터링 장치
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020230057028
출원일
2023-05-02
공개번호
1020240160349
공개일
2024-11-11
등록번호
1029096820000
등록일
2026-01-05
IPC 분류
H01J 37/32|H05H 1/00|H10P 74/00
대표도면
요약
대면적 투과필터를 활용한 플라즈마 공정 모니터링 장치는 윈도우부, 필터부 및 광 검출부를 포함한다. 상기 윈도우부는 플라즈마에서 방출되는 광이 입사된다. 상기 필터부는 상기 광의 입사 방향에 수직인 방향으로 적어도 2개 이상이 배열되고, 각각은 기 설정된 대역(band)의 신호를 투과시키는 필터들을 포함한다. 상기 광 검출부는 상기 필터들 각각과 정렬되도록 적어도 2개 이상이 배열되어, 상기 필터를 통과한 광을 검출하는 검출기들을 포함한다.
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