특허보유현황
트랩형 플라즈마 반응장치 및 이를 구비한 반도체 공정 설비
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020230065732
출원일
2023-05-22
공개번호
1020240168126
공개일
2024-11-29
등록번호
1028569770000
등록일
2025-09-03
IPC 분류
H01J 37/32
대표도면
요약
트랩형 플라즈마 반응장치는 접지 전극, 포집부, 유전체, 및 고전압 전극을 포함한다. 접지 전극은 진공관에 제공된 제1 개구를 둘러싸며 진공관의 외측에 위치한다. 포집부는 진공관의 내부에서 제1 개구를 사이에 두고 접지 전극과 이웃하게 위치하고, 제2 개구를 구비한 복수의 포집판이 공정가스의 흐름 방향을 따라 서로간 거리를 두고 배치된 다층 구조로 이루어진다. 유전체는 접지 전극에 결합되며, 고전압 전극은 유전체의 외측에 위치한다. 고전압 전극에 구동 전압이 인가되면 유전체 및 접지 전극의 내부 공간과 포집부에 서로 다른 세기의 플라즈마가 생성된다.
전문보기
기술이전 상담신청