특허보유현황
플라즈마 반응장치, 이를 이용한 공정가스 처리 방법, 및 이를 구비한 반도체 공정 설비
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020230082164
출원일
2023-06-26
공개번호
1020250000381
공개일
2025-01-03
등록번호
1028810650000
등록일
2025-10-30
IPC 분류
H01J 37/32
대표도면
요약
플라즈마 반응장치는 본체, 복수의 유전체, 셀 구조체, 및 복수의 고전압 전극을 포함한다. 본체는 진공관에 연결 설치되며, 내부로 공정가스가 통과한다. 복수의 유전체는 본체의 내부에 위치하며, 관형으로 이루어진다. 셀 구조체는 본체의 내부에 고정되어 본체와 함께 접지되고, 본체와 함께 복수의 유전체 각각을 둘러싸는 복수의 단위 셀을 구획한다. 복수의 고전압 전극은 복수의 유전체 각각의 내측에 위치하고, 전원으로부터 구동 전압을 인가받아 복수의 단위 셀에 플라즈마를 생성한다. 셀 구조체는 복수의 단위 셀 각각의 상류 측에 위치하는 공정가스 유입구와, 복수의 단위 셀 각각의 하류 측에 위치하는 공정가스 배출구를 구비한다.
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