특허보유현황
학습을 이용한 플라즈마 공정 모니터링 시스템 및 이를 이용한 플라즈마 공정 모니터링 방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020230101041
출원일
2023-08-02
공개번호
1020250019890
공개일
2025-02-11
등록번호
1028803650000
등록일
2025-10-29
IPC 분류
H01J 37/32|H05H 1/00|G01J 3/02|G01J 3/28
대표도면
요약
학습을 이용한 플라즈마 공정 모니터링 시스템 및 이를 이용한 플라즈마 공정 모니터링 방법에서, 상기 플라즈마 공정 모니터링 시스템은 렌즈 유닛, 분광기, 이미지화 모듈, 학습부 및 판단부를 포함한다. 상기 렌즈유닛은 플라즈마 공정이 수행되는 챔버부에서 발생되는 광을 획득한다. 상기 분광기는 상기 획득된 광으로부터 광 스펙트럼을 도출한다. 상기 이미지화 모듈은 상기 광 스펙트럼을 이미지화한다. 상기 학습부는 상기 이미지화된 이미지를 바탕으로 상기 플라즈마 공정의 상태에 대하여 학습한다. 상기 판단부는 상기 학습부의 학습 결과를 바탕으로, 상기 플라즈마 공정의 상태에 대하여 판단한다.
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