특허보유현황
배관 내면 처리장치 및 이를 이용한 배관 내면 처리방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020230101644
출원일
2023-08-03
공개번호
1020250020136
공개일
2025-02-11
등록번호
1028873770000
등록일
2025-11-12
IPC 분류
H01J 37/32|F16L 58/02
대표도면
요약
배관 내면 처리장치 및 이를 이용한 배관 내면 처리방법에서, 상기 배관 내면 처리장치는 공급배관, 제1 보조배관, 제1 처리배관 및 제1 전원 공급부를 포함한다. 상기 공급배관은 내부 공간으로 가스를 공급한다. 상기 제1 보조배관은 상기 공급배관의 외주면 상에 위치하며, 외부에는 전극부가 위치한다. 상기 제1 처리배관은 상기 제1 보조배관에 인접하도록 상기 공급배관의 외주면 상에 위치한다. 상기 제1 전원 공급부는 상기 제1 보조배관의 전극부와 상기 제1 처리배관의 사이에서 전원을 제공한다. 이에, 상기 전원의 제공에 따라, 상기 제1 보조배관의 내면과 상기 제1 처리배관의 내면 사이에서 플라즈마가 유도된다.
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