특허보유현황
※ 본 공고는 설정등록된 특허(특허법 제87조)를 기준으로 작성되었으며, 최신 특허출원은 설정등록 이후 순차적으로 반영됩니다.
반복 사용이 가능한 형상기억 소재를 이용한 곡면 템플릿 제조방법 및 곡면 템플릿을 이용한 나노 구조체 제조방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020230107386
출원일
2023-08-17
공개번호
1020250027346
공개일
2025-02-26
등록번호
1030102090000
등록일
2026-08-21
IPC 분류
B29C 33/38|B29C 33/42|B29C 39/00|B29C 39/02|B29C 39/26|B29C 39/38|B29C 39/36|B29C 43/00|B29C 43/02|G03F 7/00|B33Y 80/00|B82Y 40/00
대표도면
요약
반복 사용이 가능한 형상기억 소재를 이용한 곡면 템플릿 제조방법 및 곡면 템플릿을 이용한 나노 구조체 제조방법에서, 상기 곡면 템플릿 제조방법은 나노 패턴을 포함하는 마스크 구조체를 제작하는 단계, 상기 마스크 구조체 상에 형상기억 폴리머를 캐스팅(casting) 및 경화하는 단계, 상기 형상기억 폴리머의 전사 나노패턴 상에 폴리머를 코팅하는 단계, 상기 폴리머가 코팅된 형상기억 폴리머를 곡면을 가지는 제1 곡면 구조체로 가압하는 단계, 상기 형상기억 폴리머로부터 상기 제1 곡면 구조체를 이형하는 단계, 및 상기 형상기억 폴리머에 코팅된 상기 폴리머를 제거하는 단계를 포함한다.
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