특허보유현황
※ 본 공고는 설정등록된 특허(특허법 제87조)를 기준으로 작성되었으며, 최신 특허출원은 설정등록 이후 순차적으로 반영됩니다.
플라즈마 수처리 장치, 이를 포함하는 플라즈마를 이용한 수처리 방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020230175922
출원일
2023-12-06
공개번호
1020250086351
공개일
2025-06-13
등록번호
1030295250000
등록일
2026-10-01
IPC 분류
C02F 1/46|H05H 1/24|C02F 1/78|C02F 1/72|C02F 1/28|B01D 53/02|C02F 3/00
대표도면
요약
본 발명은 플라즈마를 이용하여 오염물질을 포함하는 폐수를 효율적으로 처리할 수 있는 플라즈마 수처리 장치 및 이를 이용한 플라즈마를 이용한 수처리 방법을 제공한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 수처리 장치는 오염물질을 포함하는 폐수를 분사하여 무화시키는 분사 노즐, 상기 분사 노즐과 마주하며 상기 분사 노즐에서 이격된 전극부재, 상기 전극부재에 부착된 유전체층, 및 상기 분사 노즐 및 상기 전극부재와 연결되어 전압을 인가하고 상기 분사 노즐과 상기 유전체층 사이에 방전을 형성하는 전원부를 포함할 수 있다.
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