특허보유현황

※ 본 공고는 설정등록된 특허(특허법 제87조)를 기준으로 작성되었으며, 최신 특허출원은 설정등록 이후 순차적으로 반영됩니다.

스크러버, 이를 포함하는 기판 처리 시스템, 및 이를 이용하는 기판 처리 방법
출원인
삼성전자주식회사|한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020240042772
출원일
2024-03-28
공개번호
1020250065537
공개일
2025-05-13
등록번호
1028989740000
등록일
2025-12-08
IPC 분류
H01J 37/32|H10P 72/70|B01D 53/75|B01D 53/00|B01D 53/32|B01D 53/56
대표도면
스크러버, 이를 포함하는 기판 처리 시스템, 및 이를 이용하는 기판 처리 방법 대표도면
요약
본 발명은 스크러버를 제공할 수 있다. 본 발명의 스크러버는 플라즈마 발생 장치 및 파워 발생 장치를 포함하는 플라즈마 처리부, 화염을 형성하는 연소기를 포함하는 연소 처리부, 상기 플라즈마 처리부와 연결되며, 상기 연소 처리부와 이격되는 연결 배관, 및 상기 연소 처리부와 연결되는 후단 처리부를 포함하되, 상기 연결 배관은 상기 플라즈마 발생 장치에 폐가스를 공급하고, 상기 플라즈마 발생 장치는 상기 폐가스를 이용하여 플라즈마를 형성하며, 상기 플라즈마 처리부 및 상기 연소 처리부는 상기 플라즈마가 형성되는 제1 반응 공간 및 상기 화염이 형성되는 제2 반응 공간을 제공할 수 있다.
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