특허보유현황
※ 본 공고는 설정등록된 특허(특허법 제87조)를 기준으로 작성되었으며, 최신 특허출원은 설정등록 이후 순차적으로 반영됩니다.
DMD 기반 리소그래피에서의 회전각 최적화 시스템 및 이를 이용한 회전각 최적화 방법
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020240161926
출원일
2024-11-14
공개번호
1020260072903
공개일
2026-05-21
등록번호
1029824890000
등록일
2026-06-22
IPC 분류
G03F 7/00|G02B 26/08
대표도면
요약
DMD 기반 리소그래피에서의 회전각 최적화 시스템 및 이를 이용한 회전각 최적화 방법에서, 상기 회전각 최적화 시스템은 DMD 기반 리소그래피에서, 스캔 방향에 대하여 DMD 이미지가 회전하는 회전각을 최적화하며, 샘플링 설정부, 누적 도출부, 비율 도출부 및 최적화 부를 포함한다. 상기 샘플링 설정부는 무차원 피치(d)와 회전각(θ)의 범위 및 샘플링 개수를 설정한다. 상기 누적 도출부는 설정된 관심영역에서 누적된 DMD 픽셀의 스폿들의 산포도를 도출한다. 상기 비율 도출부는 상기 관심영역과, 상기 누적된 DMD 픽셀의 스폿들이 차지하는 영역의 비율(R)을 도출한다. 상기 최적화 부는 상기 설정된 d와 θ의 모든 조합 중, R이 가장 큰 d와 θ조합을 도출하여 상기 회전각(θ)을 최적화한다.
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