특허보유현황

※ 본 공고는 설정등록된 특허(특허법 제87조)를 기준으로 작성되었으며, 최신 특허출원은 설정등록 이후 순차적으로 반영됩니다.

Si 기반의 나노 구조체를 제조하기 위한 에칭 마스크 및 이를 사용하여 제조된 Si 기반의 나노 구조체
출원인
한국기계연구원
등록상태
등록
출원번호
1020240178599
출원일
2024-12-04
공개번호
1020260087184
공개일
2026-06-11
등록번호
1030303210000
등록일
2026-10-02
IPC 분류
H01M 4/04|H01M 4/38|H01M 4/134|C23F 1/02|B01J 21/08|H01M 4/02
대표도면
Si 기반의 나노 구조체를 제조하기 위한 에칭 마스크 및 이를 사용하여 제조된 Si 기반의 나노 구조체 대표도면
요약
본 명세서에 개시된 기술의 일 실시예에 따른, 에칭(etching) 마스크는, 돌출부를 포함하는 폴리머 몰드, 및 돌출부 상에 증착되는 금속 구조체를 포함하고, 금속 구조체는 기판 상에 전사될 패턴을 형성한다.
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