기술예고
기술명 플라즈모닉 나노패턴 기판 공정기술
| 연구책임자 | 정준호 |
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| 고객/시장 | ㅇ 발광효율 개선을 위한 디스플레이 및 발광소자 분야 - OLED의 경우 연평균 성장률 40%로 2015년 2조7,000억원을 상회 (한국조명기술연구소 2008년도 보고서) ㅇ 플라즈모닉 센서, 및 초소형 분광기 관련 산업분야 |
| 기존 기술의 한계 또는 문제점 | |
| 기술이 가져다 주는 명백한 혜택 | ㅇ 본 기술의 발광소자 적용 시 내부 열확산을 줄이고 내부양자효율을 높일 수 있음. - 함몰형 금속나노패턴 어레이 적용을 통해, current leakage에 의한 열손실을 낮출 수 있음 ㅇ 플라즈모닉 센싱 강도를 획기적으로 증가시킬 수 있음 - 표면 및 형상제어를 통해 필드강도를 높여 센싱의 정밀도를 높일 수 있음 |
| 기술의 차별성 | ㅇ Metal Imprint Transfer 공정은 임프린트와 전사공정을 혼용화 하여 패턴의 돌출정도 제어 - 함몰형 기판은 평탄화된 금속패턴 어레이를 싱글스텝을 구현 가능함. ㅇ 안정적인 재현성 높은 Lifts-off를 가능하게 해 주는 Bilayer Hybrid Nanoimprint 공정 개발 - 기존 나노임프린트 공정에 이은 Metal Lift-off와 차별화됨. |
| 기술의 우수성 | ㅇ PL 측정결과 무패턴 기판에 비해 3~7배 증가 감도 향상 결과 확보 ㅇ EL 측정결과 돌출형 금속패턴에 비해 함몰형 금속패턴기판 적용샘플른 EL 효율 증가되었음 |
| 지식재산권 현황 | |
| 희망파트너쉽 | 공동연구 |
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