기술예고
기술명 연속식 무전해 공침 CIGS 나노 입자 제조장치
| 연구책임자 | 최상규 |
|---|---|
| 고객/시장 | ㅇ 금속나노입자 제조회사, 금속분말 제조회사, CIGS박막태양전지 제조회사 |
| 기존 기술의 한계 또는 문제점 | |
| 기술이 가져다 주는 명백한 혜택 | ㅇ 금속염을 이용한 나노입자 생성으로 저렴하고 연속적으로 생성 가능 ㅇ CIGS 나노입자를 통한 잉크프린팅 기법으로 박막생산시 소재를 절약하며 저렴한 공정으로 제조 ㅇ 복수의 금속을 동시에 석출할 수 있어서 공정이 간단하고 생산성이 높음 ㅇ 구리염을 통한 구리입자 생성시험에서 수백 ㎚ ∼수십 ㎛ 크기의 입자 생성함 |
| 기술의 차별성 | ㅇ 기존의 CIGS 박막태양전지 제조공정은 동시증착법(Co-evaporation),스퍼터링(Sputtering), MOCVD 공정 등이 있으나, 고가의 진공 스퍼터링 공정이나 RTP 공정이 필수적인 공정으로 복잡하고 CIGS 융착율을 제어하기 힘들고 고가임 ㅇ CIGS 잉크프린팅 법은 CIGS 나노입자를 이용하여 잉크를 제조한 다음 프린팅 기법으로 substrate에 프린팅하여 박막을 제조하는 기법으로 스퍼터링 기법대비 매우 간단하며, 소재의 낭비가 거의 없는 기법으로 선진국에서는 대대적인 투자를 하고 있는 공정임 ㅇ 기존의 금속 나노입자 생성법은 기계적 mill 방식, solvothermal, solvochemical 방법 등이 있으나 경제성이 낮거나 고온 고압을 필요로 함 |
| 기술의 우수성 | ㅇ 석출하고자 하는 금속의 금속염(예:Cu, In, Ga, Se 클로라이드)을 하이드라진(N2H4)을 이용 환원하는 방식으로 단독 또는 복수로 석출 가능 ㅇ 착화제(Complexing Agent)(유기산 : 구연산,아스코빅산,..)를 첨가하여 일정량 금속염의 반응을 유지하고 반응조에서 석출하여 over Flow되는 입자를 포집 ㅇ Cu 나노입자의 SEM 촬영, ㅇ 진공상태에서 건조 후 골드코팅(스퍼터링) 후 SEM 촬영 ㅇ 나노입자가 작아지고 균일해짐 확인 ㅇ 책임급 연구원 1명, 선임급 연구원 1명, 연구경력 30년 |
| 지식재산권 현황 | |
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