질의응답

제목 ITO관련 질문입니다.
상태 | 대기 |
---|---|
작성자 | |
작성일 | 2007-05-10 |
조회 | 2164 |
내용 |
원내에서 2007년 2월에 thin solid films에 퍼블릭된 논문이 있는걸로 알고있습니다. 제목은 effects of hydrogen gas on properties of ITO films deposited by RF magnetron sputtering method 인데요! 거기 내용에 보면 Ar과 H를 비율로 실험을 진행하였습니다. 그때 그 비율을 어떻게 계산이 된건지 정확히 알고싶습니다. 예를 들면 부피비율, 질량비율, sccm단위로 환산을 하신거지? 정말 궁금하네요! 저도 교내석사과정을 하면서 ITO에 관련한 공부를 하고 있는데, 이 논문을 보면서 관심을 많이 가지고 있습니다. 알 수 있는 방법이나 답변이 가능하시다면 도와주시기 바랍니다. - 고려대학교 응용물리학과 석사3학기 양이홍입니다. 017-302-4157 - |
첨부파일 |
- 담당부서 대외협력실
- 연락처 042-868-7656